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磁控濺射鍍膜真空室內(nèi)的工藝流程
來源: | 發(fā)布日期:2022-01-01

         磁控濺射鍍膜廠家,收到來料電鍍的產(chǎn)品先是檢驗(yàn),再上掛清洗,清洗是很重要的一個(gè)步驟,貨品清洗潔凈度不夠,會(huì)直接影響膜層的附著力,這是PVD電鍍廠家的大忌。產(chǎn)品清洗后,進(jìn)入密閉真空室內(nèi)工藝流程是怎樣的呢?

        第一,采用輝光放電產(chǎn)生的氬離子清洗工件,向真空室內(nèi)充入氬氣,放電電壓為1000V左右,接通電源產(chǎn)生輝光放電,用氬離子轟擊清洗工件

磁控濺射鍍膜

        第二,鍍氮化鈦膜層,磁控濺射鍍膜開啟鈦靶電源后產(chǎn)生輝光放電,高能的氬離子轟擊濺射靶材,從靶材上濺射出鈦原子,通入反應(yīng)氣體氮?dú)猓佋雍偷獨(dú)庠谥笨帐覂?nèi)被電離成鈦離子、氮離子,在工件所加負(fù)偏壓電場的吸引下,離子加速到工件表面沉積生成氮化鈦膜層。

       第三,達(dá)到預(yù)設(shè)的膜層厚度以后,關(guān)閉磁控濺射鍍膜機(jī)的電源,偏壓電源,氣體源。待產(chǎn)品溫度低于120度以后,向真空室內(nèi)通入空氣,取出電鍍產(chǎn)品。

       如果您想親眼觀看,產(chǎn)品在真空室內(nèi)顏色是如何濺射上去的,歡迎來電咨詢:0755-27865425

【本文標(biāo)簽】 磁控濺射鍍膜

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