高爾夫球配件真空鍍膜 是一種在真空環(huán)境下，運用特定物理或化學(xué)手段，使膜層沉積在高爾夫球頭表面的技術(shù)。其基本原理主要涉及物理氣相沉積技術(shù)和化學(xué)氣相沉積技術(shù)這兩類。

物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，比如將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，隨后直接沉積到高爾夫球配件表面上。例如通過加熱使待鍍材料達到蒸發(fā)溫度，令其蒸發(fā)成氣體，再讓這些氣體分子或者分子離化成原子沉積到配件表面；或者采用高能粒子轟擊材料，使其濺射到球頭表面。

化學(xué)氣相沉積技術(shù)則是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給配件基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，進而在配件上制出金屬或金屬化合物薄膜，像常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積以及兼有兩者特點的等離子化學(xué)氣相沉積等都屬于此類方式。通過這些原理實現(xiàn)的真空鍍膜，能夠在高爾夫球配件表面形成一層平整、致密且均勻的膜層，高爾夫球配件真空鍍膜 后可獲得更多優(yōu)良的特性。