先說下真空鍍膜 和光學(xué)鍍膜在鍍膜概念的區(qū)別：

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鈦、真空鍍鉻等。

2、光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層（或多層）金屬（或介質(zhì)）薄膜的工藝過程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜（物理鍍膜的一種）和化學(xué)鍍膜。

真空鍍膜 和光學(xué)鍍膜膜厚的區(qū)別：真空鍍膜一般金屬材料電鍍出來的膜厚度大概是3-5微米。光學(xué)鍍膜的膜厚測試可以在鍍膜機(jī)的中間頂上裝置膜厚測試儀即可。早期使用的是光控測試，現(xiàn)在一般用晶振片，使用的是晶振片震動的頻率來測試鍍膜的厚度。不同膜層的厚度不同。