PVD真空鍍鉻 是PVD真空鍍膜的常規(guī)工藝，但客戶說(shuō)試了幾家都不行，這是為什么呢？

普通PVD真空鍍鉻是通過(guò)磁控濺射工藝，將靶材上的鉻離化后濺射到素材上形成的膜層，單純的鉻靶工藝所鍍制的膜層和不銹鋼本色相比，略亮和白一些。但現(xiàn)在市面上比較流行的是有一定需求的硬鉻工藝，其膜層是由2-3種靶材通過(guò)磁控濺射而形成的符合膜層，例如鉻硅氮工藝，其膜層硬度更高，表面摩擦系數(shù)也更低一些，具有良好的耐磨和耐蝕性。另外不同的材質(zhì)PVD真空鍍鉻，其難易程度也不同，比如不銹鋼和鈦基材，工藝的難度就小一些。如果是其他合金，難度就會(huì)高很多。

所以，PVD真空鍍鉻 怎么做？是因客戶的需求和素材材質(zhì)的區(qū)別而不同，具體情況分別面對(duì)，如果您有相關(guān)內(nèi)容咨詢，歡迎來(lái)電交流：18018742966