你知道PVD真空鍍膜 的三種加工工藝：真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍的區(qū)別在哪里嗎？其區(qū)別主要如下：

1、從膜層特點(diǎn)看：真空蒸鍍密度小但表面光滑、低溫時氣孔多、附著性不太好、內(nèi)應(yīng)力為拉應(yīng)力繞射性差；濺射密度大、氣孔少、但混入濺射氣體較多、附著性較好、內(nèi)應(yīng)力為壓應(yīng)力、繞射性差；離子鍍密度大，無氣孔但膜層缺陷較多，附著性很好，內(nèi)應(yīng)力視工藝條件而定，繞射性較好。

2、從被沉積物質(zhì)的氣化方式看：真空蒸鍍?yōu)殡娮杓訜帷㈦娮邮訜?、感?yīng)加熱、激光加熱等；濺射鍍的鍍料原子不是靠加熱方式蒸發(fā)，而是靠陰極濺射由靶材獲得沉積原子；離子鍍可以分為蒸發(fā)式或者濺射式，蒸發(fā)式為電阻加熱、電子束加熱、感應(yīng)加熱、激光加熱等，濺射式由進(jìn)入輝光放電空間的原子由氣體提供，反應(yīng)物沉積在基片上。

3、從鍍膜的原理及特點(diǎn)看：真空蒸鍍工件不帶電，真空條件下金屬加熱蒸發(fā)沉積到工件表面，沉積粒子的能量與蒸發(fā)時的溫度對應(yīng)。濺射鍍的工件為陽極，靶為陰極，利用氬原子的濺射作用把靶材原子擊出而沉積在工件表面上，沉積原子的能量由被濺射原子的能量分布決定。離子鍍的工件為陰極，蒸發(fā)源為陽極，進(jìn)入輝光放電空間的金屬原子離子化后奔向工件，并在工件表面沉積成膜，沉積過程中離子對基片表面、膜層與基片的界面以及膜層本身都發(fā)生轟擊作用，粒子的能量決定于陰極上所加的電壓。

以上是從三個方面分析的PVD真空鍍膜 加工工藝中的三種不同工藝的卻別，如您還想了解更多，歡迎致電咨詢：18018742966