PVD真空鍍膜 的原理主要是物理氣相沉積，這項(xiàng)技術(shù)是當(dāng)前國際上廣泛應(yīng)用的先進(jìn)的表面處理技術(shù)。其工作原理，就是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí)把蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基材表面。

PVD真空鍍膜具有沉積速度快和表面光滑易清潔的特點(diǎn)，特別具有膜層附著力強(qiáng)、繞性好、抗氧化，抗腐蝕，耐磨損，化學(xué)性能穩(wěn)定，抗酸，且可鍍材料廣泛，與基體結(jié)合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。森豐鍍膜廠采用全球最先進(jìn)的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝設(shè)備，在此基礎(chǔ)之上還有自主的研發(fā)團(tuán)隊(duì)，研發(fā)出的產(chǎn)品榮獲了國家多項(xiàng)專利證書。憑借在鍍膜行業(yè)二十多年的寶貴經(jīng)驗(yàn)，為客戶提供專業(yè)的適合產(chǎn)品的加工方案，完全能達(dá)到PVD鍍膜的優(yōu)點(diǎn)。

PVD真空鍍膜 森豐是專業(yè)的，歡迎蒞臨參觀指導(dǎo)，預(yù)約熱線：18018742966