PVD真空鍍膜 是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),在基材上形成薄膜的一種表面處理技術(shù)。

真空鍍與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多優(yōu)點：如對環(huán)境無污染，是綠色環(huán)保工藝，對操作者身體無傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強，膜厚均勻。真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜技術(shù)中常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜等方法，其統(tǒng)稱物理氣相沉積，簡稱PVD。蒸發(fā)鍍膜：通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。磁控濺射：通過引入磁場，電子在電場的作用下，與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子，Ar離子在電場作用下高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射，濺射出的原子或分子沉積在基片上形成薄膜，就是磁控濺射鍍膜。

蒸發(fā)鍍是磁控濺射鍍膜的鼻祖，但二者均屬于PVD真空鍍膜 ，如您還想要了解更多相關(guān)知識，歡迎來電咨詢：18018742966