真空鍍膜 其實是一個很廣的范圍。今天重要客戶cmf詢問我們家到底是做哪一類的。今天小編為大家分享真空鍍膜種類。

第一類，真空蒸發(fā)鍍膜，是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)物質使之汽化，蒸發(fā)粒子流直接射向基片并在基片上沉積形成固態(tài)薄膜的技術。包括熱蒸發(fā)和EB蒸，熱蒸發(fā)是在真空狀況下，將所要蒸鍍的材料利用電阻加熱達到熔化溫度，使原子蒸發(fā)，到達并附著在基板表面上的一種鍍膜技術；熱蒸發(fā)是在真空狀況下，將所要蒸鍍的材料利用電阻加熱達到熔化溫度，使原子蒸發(fā)，到達并附著在基板表面上的一種鍍膜技術。

第二類，磁控濺射，給靶材施加高電壓（形成等離子狀態(tài)），使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈，而在樣品表面形成金屬皮膜的方法。

第三類，真空離子鍍膜，是真空蒸發(fā)和真空濺射鍍膜結合的一種鍍膜技術。

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