你聽說過離子鍍嗎？真空鍍膜加工 中的真空離子鍍和普通離子鍍有什么不一樣呢？接下來小編就簡要介紹下的這兩種離子鍍的區(qū)別吧！

蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子形態(tài)沉積在固體表面，稱為離子鍍，這種是普通的離子鍍。真空離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。這種離子鍍系統(tǒng)是將基體材料作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體(如氬)以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時(shí)發(fā)生電離。正離子被負(fù)電壓加速打到基體材料表面。未電離的中性原子也會沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用(離子能量約幾百～幾千電子伏)和氬離子對基片的濺射作用，使膜層附著強(qiáng)度大大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)(高沉積速率)與濺射(良好的膜層附著力)工藝的特點(diǎn)，并有很好的繞射性，可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。

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