PVD真空鍍膜：是一種物理氣相沉積工藝，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍素材上的薄膜技術(shù)。素材爐體鍍成膜時有兩個很重要條件，一是高真空狀態(tài)，二是素材質(zhì)量，所以，鍍膜的素材表面必須是干凈的、無任何附著物的條件下，才能進入爐體內(nèi)，在高真空條件下完成鍍膜。

對待電鍍的素材胚料表面有比較高的要求：

1.表面不能有其它表面改性處理的附著層，如回火氧化層、電鍍鉻、氧化發(fā)黑層等。

2.表面不能有銹跡、油漆、膠水、燒焦料。

3.組合式的胚料或有特殊要求必須全方位電鍍到的，必須完全拆解成單獨部件，以便于電鍍前的清洗。組合件清洗時會有臟污溢出，清洗不干凈，加大了清洗難度，有些帶子需要反復(fù)抽真空，烘烤才可以處理干凈。組合件容易在爐體內(nèi)的高溫狀態(tài)下因高溫膨脹系數(shù)損壞被電鍍的胚料。

4.焊接結(jié)構(gòu)胚料的表面需要徹底清潔處理，不能有氧化層或埋孔，否則電鍍膜層容易脫落，附著力差。

待真空鍍膜電鍍的素材必須達到以上表面要求，才能進爐真空爐體內(nèi)電鍍。一般情況下，素材表面在滿足使用的條件下，表面光潔度越好，膜層結(jié)合力越好，效果也越好。