真空離子鍍膜 的叫法有很多種，比如真空鍍、pvd、濺射鍍等等，真空離子鍍膜到底在那個(gè)范疇，與哪個(gè)稱呼對等呢？

其實(shí)真空離子鍍膜屬于真空鍍膜的一種，也屬于PVD的一種。這三者中，真空鍍膜范圍最廣，PVD次之，真空離子鍍膜范圍最小。那真空離子鍍膜是不是就是磁控濺射，二者是否對等呢？答案是否定的，二者并不對等，真空離子鍍膜是真空蒸發(fā)和真空濺射鍍膜結(jié)合的一種鍍膜技術(shù)。離子鍍的過程是在真空條件下,利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)(膜材)部分離化,在工作氣體離子或者被蒸發(fā)物質(zhì)的離子轟擊作用下,把蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物沉積在被鍍基片表面的過程。

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