在真空離子鍍 過(guò)程中，鍍材原子被電離成帶電離子，它們將沿電場(chǎng)電力線的方向運(yùn)動(dòng)，所以凡是分布有電力線的地方，都是離子所及之處。另外電鍍廠在射向工件的過(guò)程中無(wú)可避免地會(huì)與尚未電離的鍍材蒸氣原子、電子發(fā)生激烈碰撞，這將使離子產(chǎn)生非定向的散射。所以在髙壓直流電場(chǎng)中處于陰極地位的工件，無(wú)論是面向處于陽(yáng)極地位的蒸發(fā)源的表面，還是背面;也無(wú)論是裸露的表面，還是孔和凹槽，離子鍍都能鍍上。

真空離子對(duì)鍍面的轟擊所產(chǎn)生的濺射效應(yīng)對(duì)鍍面有凈化作用，它清除了吸附在鍍面上的氣膜和污物，而且這種凈化作用伴隨離子鍍過(guò)程的始終。離子的轟擊作用還會(huì)產(chǎn)生“反派射”，基體表面上有部分原子被濺射下來(lái)并電離，而后又隨其他離子返回鍍件表面，這就可能在鍍膜與基體表面之間的膜基面上形成過(guò)渡層或鍍材成分與基材成分的混合層。另外，在真空離子鍍 過(guò)程中濺射效應(yīng)還能將與基體表面或與已鍍層附著不牢的鍍材原子再轟擊下來(lái)。離子轟擊還能使整體表面出現(xiàn)一些晶體缺陷，使鍍材原子的機(jī)械嵌入成為可能。電鍍廠將這些所有有作用的都有利于鍍膜與基體間結(jié)合強(qiáng)度的提高。