在高爾夫真空鍍膜 中，常用的工藝方法主要有物理氣相沉積（PVD）和化學(xué)氣相沉積（CVD）等，下面為大家介紹PVD真空鍍膜的特點。

物理氣相沉積（PVD）技術(shù)是在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，隨后直接沉積到高爾夫配件表面上。比如常見的有通過加熱使待鍍材料達(dá)到蒸發(fā)溫度，令其蒸發(fā)成氣體，再讓這些氣體分子沉積到配件表面，這一方式被稱為蒸發(fā)鍍膜；還有采用高能粒子轟擊材料，使其濺射到配件表面的濺射鍍膜等。

        PVD 技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜以及重復(fù)性好等優(yōu)點。并且其工藝處理溫度可控制在500℃以下，所以可作為最終的處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類的薄膜刀具上。

        在應(yīng)用上 PVD 涂層技術(shù)還分工具鍍和裝飾鍍兩大類，PVD 工具鍍沉積速度慢，顏色單一，厚度均勻，追求的是膜層的高性能，直接沉積在工件表面，無需鎳或其他打底，表面具有高硬度、耐摩擦、耐高溫、耐腐蝕性等特點，適合精密部件、模具、五金成型模具、數(shù)控切削刀具等領(lǐng)域的表面處理；PVD 裝飾鍍沉積速度快，硬度低，膜層薄，主要以工件表面的裝飾性為主，可以形成多樣化的顏色，如金色、咖啡色、古銅色、七彩色等，常用于一些裝飾件的表面和要求外觀的五金件。高爾夫真空鍍膜 的選擇，可根據(jù)配件的性能要求進(jìn)行選擇。