接上一篇我們介紹的高爾夫真空鍍膜 PVD工藝的介紹，我們今天就來聊下化學氣相沉積（CVD），CVD技術(shù)則是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給高爾夫配件基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應(yīng)，進而在球頭上制出金屬或金屬化合物薄膜，像常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積以及兼有兩者特點的等離子化學氣相沉積等都屬于此類方式。它可以制備出各種不同材質(zhì)和性能的薄膜，比如可以制備出硬度高、耐磨性好、耐腐蝕性強的硬質(zhì)薄膜，也能制備出具有特殊光學、電學等性能的功能薄膜。不過相對來說，CVD 工藝可能在操作過程中對反應(yīng)條件要求更為嚴格一些，需要精準控制氣體的流量、濃度、反應(yīng)溫度等參數(shù)，以確保薄膜的質(zhì)量和性能穩(wěn)定。

不同的工藝方法適用于不同的高爾夫配件材質(zhì)或設(shè)計需求場景。例如，對于一些采用高強度合金鋼材質(zhì)制作的高爾夫配件，如果更注重提升其表面硬度、耐磨性以及耐高溫性能，那么 PVD 工具鍍這種工藝方法就比較合適；而要是希望在高爾夫配件表面呈現(xiàn)出絢麗多彩的外觀效果，吸引消費者的目光，采用 PVD 裝飾鍍就能夠滿足需求。對于一些特殊設(shè)計的高爾夫球頭，比如需要在表面形成具有特定電學或光學性能的薄膜，像能抗靜電、有反光效果等，此時 CVD 工藝憑借其可以靈活調(diào)配反應(yīng)氣體來制備各種功能薄膜的優(yōu)勢，便成為了更好的選擇。