接上一篇我們介紹的高爾夫真空鍍膜 PVD工藝的介紹，我們今天就來聊下化學(xué)氣相沉積（CVD），CVD技術(shù)則是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給高爾夫配件基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，進(jìn)而在球頭上制出金屬或金屬化合物薄膜，像常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積以及兼有兩者特點(diǎn)的等離子化學(xué)氣相沉積等都屬于此類方式。它可以制備出各種不同材質(zhì)和性能的薄膜，比如可以制備出硬度高、耐磨性好、耐腐蝕性強(qiáng)的硬質(zhì)薄膜，也能制備出具有特殊光學(xué)、電學(xué)等性能的功能薄膜。不過相對(duì)來說，CVD 工藝可能在操作過程中對(duì)反應(yīng)條件要求更為嚴(yán)格一些，需要精準(zhǔn)控制氣體的流量、濃度、反應(yīng)溫度等參數(shù)，以確保薄膜的質(zhì)量和性能穩(wěn)定。

不同的工藝方法適用于不同的高爾夫配件材質(zhì)或設(shè)計(jì)需求場(chǎng)景。例如，對(duì)于一些采用高強(qiáng)度合金鋼材質(zhì)制作的高爾夫配件，如果更注重提升其表面硬度、耐磨性以及耐高溫性能，那么 PVD 工具鍍這種工藝方法就比較合適；而要是希望在高爾夫配件表面呈現(xiàn)出絢麗多彩的外觀效果，吸引消費(fèi)者的目光，采用 PVD 裝飾鍍就能夠滿足需求。對(duì)于一些特殊設(shè)計(jì)的高爾夫球頭，比如需要在表面形成具有特定電學(xué)或光學(xué)性能的薄膜，像能抗靜電、有反光效果等，此時(shí) CVD 工藝憑借其可以靈活調(diào)配反應(yīng)氣體來制備各種功能薄膜的優(yōu)勢(shì)，便成為了更好的選擇。