PVD真空鍍膜就是我們所說的物理氣相沉積的英文首字母縮寫（PVD）。是在真空條件下，利用蒸發(fā)或濺射等物理形式，把固體的材料轉(zhuǎn)化為原子、分子或者離子態(tài)的氣相物質(zhì)然后使這些攜帶能量的蒸發(fā)粒子沉積到基體或零件的表面，以形成膜層的膜制備方法。物理氣相沉積法主要有真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍。

真空蒸鍍：在真空中加熱使金屬、合金或化合物蒸發(fā)，然后凝結(jié)在基體表面上的方法叫真空蒸鍍。

濺射鍍：濺射是利用高速正離子轟擊某一靶材（陰極），使靶材表面原子以一定能量剝離，后在工件表面沉積的過程。

離子鍍：借助于一種惰性氣體的輝光放電使被鍍金屬或合金蒸發(fā)離子化，并使這些荷能離子轟擊基體（工件）表面，同時沉積在其表面形成膜層。

以上就是PVD真空鍍膜 的三種工藝，不同基材，不同要求，所選擇的鍍膜工藝自然也不同，如您想了解更多有關(guān)真空鍍膜相關(guān)知識，歡迎致電：18018742966