真空鍍膜是指在真空條件下運用磁控濺射原理在工件表面沉積涂層的技術(shù)。真空鍍膜工藝流程分以下幾個步驟：

第一，工件外觀檢查。真空鍍膜工藝涂層很薄，屬于納米級別的膜層，無法覆蓋工件本身的瑕疵和缺陷，因此如果工件有外觀要求，首先需要確保工件本身外觀無缺陷；

第二，工件上架。該步驟是整個真空鍍膜工藝流程中很重要的一個環(huán)節(jié)，除了避免工件在流通過程中的二次損傷外，還有很重要的一點需要考量，那就是工件之間的間距，必須保證濺射過程中無遮擋，同時考量裝載量，節(jié)約真空鍍膜工藝成本；

第三，清洗環(huán)節(jié)。該環(huán)節(jié)關(guān)乎膜層品質(zhì)能否得到保障。真空鍍膜工藝要求工件必須清潔，無油污、粉塵、雜質(zhì)等，如果清洗不徹底，膜層就會假附著在臟污上，隨著臟污被擦掉，膜層也會隨之脫落；

第四，爐內(nèi)真空鍍膜環(huán)節(jié)，也是真空鍍膜工藝核心技術(shù)環(huán)節(jié)。爐體清潔、入爐、抽真空、保溫、開靶、充氣等，很多鍍膜廠家可實現(xiàn)真空鍍膜工藝全自動化控制，比如森豐真空鍍膜有限公司，智能控制鍍膜參數(shù)，使得批次之間的色差得到很好的管控；

最后就是冷卻出爐，檢驗工件顏色、外觀、膜層厚度和信賴性測試等。

真空鍍膜工藝流程較復(fù)雜，產(chǎn)品實現(xiàn)的流程耗時比較長，需要管控的環(huán)節(jié)較多。